אין די לעצטע יאָרן, מיט די פּראָגרעס פון ינאַגרייטיד קרייַז (IC) טעכנאָלאָגיע, די פֿאַרבונדענע אַפּלאַקיישאַנז פון ינאַגרייטיד סערקאַץ זענען ראַפּאַדלי דעוועלאָפּעד.ספּאַטערינג ציל פון אַלומינום צומיש פון הינטער הויך ריינקייַט, ווי אַ שטיצן מאַטעריאַל אין די מאַנופאַקטורינג פון ינאַגרייטיד קרייַז מעטאַל ינטערקאַנעקץ, איז געווארן אַ הייס טעמע אין די לעצטע דינער פאָרשונג.דער רעדאַקטאָר פון RSM וועט ווייַזן אונדז די קעראַקטעריסטיקס פון הויך ריינקייַט אַלומינום צומיש ספּוטערינג ציל.
אין סדר צו ווייַטער פֿאַרבעסערן די ספּוטערינג עפעקטיווקייַט פון מאַגנטראָן ספּוטערינג ציל און ענשור די קוואַליטעט פון דאַפּאַזיטיד פילמס, אַ גרויס נומער פון יקספּעראַמאַנץ ווייַזן אַז עס זענען זיכער רעקווירעמענץ פֿאַר דער זאַץ, מיקראָסטרוקטורע און קערל אָריענטירונג פון הינטער-הויך ריינקייַט אַלומינום צומיש ספּוטערינג ציל.
די קערל גרייס און קערל אָריענטירונג פון די ציל האָבן אַ גרויס השפּעה אויף דער צוגרייטונג און פּראָפּערטיעס פון IC פילמס.די רעזולטאַטן ווייַזן אַז די דעפּאַזישאַן קורס דיקריסאַז מיט די פאַרגרעסערן פון קערל גרייס;פֿאַר די ספּאַטערינג ציל מיט דער זעלביקער זאַץ, די ספּאַטערינג קורס פון די ציל מיט קליין קערל גרייס איז פאַסטער ווי אַז פון די ציל מיט גרויס קערל גרייס;די מער מונדיר די קערל גרייס פון דעם ציל, די מער מונדיר די גרעב פאַרשפּרייטונג פון די דאַפּאַזיטיד פילמס.
אונטער דער זעלביקער ספּאַטערינג קיילע און פּראָצעס פּאַראַמעטערס, די ספּיטערינג קורס פון Al Cu צומיש ציל ינקריסיז מיט די פאַרגרעסערן פון אַטאָמישע געדיכטקייַט, אָבער עס איז בכלל סטאַביל אין אַ קייט.די ווירקונג פון קערל גרייס אויף ספּאַטערינג קורס איז רעכט צו דער ענדערונג פון אַטאָמישע געדיכטקייַט מיט די ענדערונג פון קערל גרייס;די דעפּאַזישאַן קורס איז דער הויפּט אַפעקטאַד דורך די קערל אָריענטירונג פון Al Cu צומיש ציל.אויף דער באזע פון ינשורינג די פּראָפּאָרציע פון (200) קריסטאַל פּליינז, די פאַרגרעסערן פון די פּראָפּאָרציע פון (111), (220) און (311) קריסטאַל פּליינז וועט פאַרגרעסערן די דעפּאַזישאַן קורס.
די קערל גרייס און קערל אָריענטירונג פון הינטער-הויך ריינקייַט אַלומינום צומיש טאַרגאַץ זענען דער הויפּט אַדזשאַסטיד און קאַנטראָולד דורך ינגגאַט האָמאָגעניזאַטיאָן, הייס אַרבעט און רעקריסטאַלליזאַטיאָן אַנילינג.מיט דער אַנטוויקלונג פון ווייפער גרייס צו 20.32 קם (8 ין) און 30.48 קם (12 ין), די ציל גרייס איז אויך ינקריסינג, וואָס לייגט העכער רעקווירעמענץ פֿאַר הינטער-הויך ריינקייַט אַלומינום צומיש ספּאַטערינג טאַרגאַץ.אין סדר צו ענשור די פילם קוואַליטעט און טראָגן, די ציל פּראַסעסינג פּאַראַמעטערס מוזן זיין שטרענג קאַנטראָולד צו מאַכן די ציל מיקראָסטרוקטורע מונדיר און די קערל אָריענטירונג מוזן האָבן שטאַרק (200) און (220) פלאַך טעקסטשערז.
פּאָסטן צייט: יוני 30-2022