וואָס איז ספּאַטער ציל מאַטעריאַל

מאַגנעטראָן ספּוטערינג קאָוטינג איז אַ נייַע גשמיות פארע קאָוטינג אופֿן, קאַמפּערד מיט די פריער יוואַפּעריישאַן קאָוטינג אופֿן, די אַדוואַנטידזשיז אין פילע אַספּעקץ זענען גאַנץ מערקווירדיק.ווי אַ דערוואַקסן טעכנאָלאָגיע, מאַגנטראָן ספּוטערינג איז געווענדט אין פילע פעלדער.

　　מאַגנטראָן ספּוטערינג פּרינציפּ:

אַ אָרטאָגאָנאַל מאַגנעטיק פעלד און עלעקטריש פעלד זענען צוגעגעבן צווישן די ספּאַטערד ציל פלאָקן (קאַטאָוד) און די אַנאָוד, און די פארלאנגט ינערט גאַז (יוזשאַוואַלי אַר גאַז) איז אָנגעפילט אין די הויך וואַקוום קאַמער.דער שטענדיקער מאַגנעט פאָרמירט אַ 250-350 גאס מאַגנעטיק פעלד אויף די ייבערפלאַך פון די ציל מאַטעריאַל, און די אָרטאָגאָנאַל ילעקטראָומאַגנעטיק פעלד איז קאַמפּאָוזד מיט די הויך וואָולטידזש עלעקטריק פעלד.אונטער די ווירקונג פון עלעקטריק פעלד, אַר גאַז ייאַנאַזיישאַן אין positive ייאַנז און עלעקטראָנס, ציל און האט זיכער נעגאַטיוו דרוק, פֿון די ציל פון די פלאָקן דורך די ווירקונג פון מאַגנעטיק פעלד און די מאַשמאָעס פון ארבעטן גאַז ייאַניזיישאַן פאַרגרעסערן, פאָרעם אַ הויך געדיכטקייַט פּלאַזמע לעבן די קאַטאָוד, אַר יאָן אונטער דער קאַמף פון לאָרענטז קראַפט, גיכקייַט אַרויף צו פליען צו די ציל ייבערפלאַך, באָמבאַרדינג ציל ייבערפלאַך מיט אַ הויך גיכקייַט, די ספּאַטערד אַטאָמס אויף די ציל נאָכגיין דעם פּרינציפּ פון מאָמענטום קאַנווערזשאַן און פליען אַוועק פון די ציל ייבערפלאַך מיט הויך קינעטיק ענערגיע צו די סאַבסטרייט דעפּאַזישאַן פילם.

מאַגנעטאָן ספּוטערינג איז בכלל צעטיילט אין צוויי טייפּס: דק ספּוטערינג און רף ספּוטערינג.דער פּרינציפּ פון דק ספּוטערינג עקוויפּמענט איז פּשוט, און די קורס איז שנעל ווען ספּאַטערינג מעטאַל.די נוצן פון רף ספּוטערינג איז מער ברייט, אין אַדישאַן צו ספּוטערינג קאַנדאַקטיוו מאַטעריאַלס, אָבער אויך ספּאַטערינג ניט-קאַנדאַקטיוו מאַטעריאַלס, אָבער אויך ריאַקטיוו ספּאַטערינג צוגרייטונג פון אַקסיידז, ניטרידעס און קאַרביידז און אנדערע קאַמפּאַונד מאַטעריאַלס.אויב די אָפטקייַט פון רף ינקריסיז, עס ווערט מייקראַווייוו פּלאַזמע ספּוטערינג.דערווייַל, עלעקטראָן סיקלאָטראָן רעזאַנאַנס (ECR) טיפּ מייקראַווייוו פּלאַזמע ספּוטערינג איז קאַמאַנלי געניצט.

　　מאַגנעטראָן ספּאַטערינג קאָוטינג ציל מאַטעריאַל:

מעטאַל ספּאַטערינג ציל מאַטעריאַל, קאָוטינג צומיש ספּוטערינג קאָוטינג מאַטעריאַל, סעראַמיק ספּוטערינג קאָוטינג מאַטעריאַל, באָרידע סעראַמיק ספּוטערינג ציל מאַטעריאַלס, קאַרבידע סעראַמיק ספּאַטערינג ציל מאַטעריאַל, פלאָרייד סעראַמיק ספּאַטערינג ציל מאַטעריאַל, ניטריד סעראַמיק ספּאַטערינג ציל מאַטעריאַלס, אַקסייד סעראַמיק ציל, סעלענידע סעראַמיק ספּאַטערינג ציל מאַטעריאַל, סילאַסייד סעראַמיק ספּוטערינג ציל מאַטעריאַלס, סולפידע סעראַמיק ספּוטערינג ציל מאַטעריאַל, טעללורידע סעראַמיק ספּוטערינג ציל, אנדערע סעראַמיק ציל, קראָומיאַם-דאָפּט סיליציום אַקסייד סעראַמיק ציל (CR-SiO), ינדיום פאָספידע ציל (ינפּ), פירן אַרסענידע ציל (פּבאַס), ינדיום אַרסענידע ציל (ינאַס).